半导体制造废水_上海微溢过滤系统

半导体制造废水

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半导体生产废水排放量大，废水污染物种类多，成份复杂，通常都包括多种重金属废水和有机废水，处理难度较大。为了保证半导体生产废水的处理效果，须按照污染物的不同将废水分类收集，针对每一类废水的主要污染物的特点，分别进行处理，可达到理想的处理效果。同时，采用先进的废水回用处理技术，保证废水回用处理系统的稳定性和经济性。

清洗工艺及废水来源

工艺	清洁源	容器	清洁效果
剥离光刻胶	氧等离子体	平板反应器	刻蚀胶
去聚合物	硫酸:水=6:1	溶液槽	除去有机物
去自然氧化层	氟化氢:水<1:50	溶液槽	产生无氧表面
旋转甩干	氮气	甩干机	无任残留物
RCA1#(碱性)	氢氧化铵:过氧化氢:水=1:1:1.5	溶液槽	除去表面颗粒
RCA2#(碱性)	氯化氢:过氧化氢:水=1：1：5	溶液槽	除去重金属粒子
DI清洗	去离子水	溶液槽	除去清洗溶剂

问题描述
1.产生废水量大；
2.废水成份复杂，含有各种过渡性质的金属如硅、锗等，同时含有较高含量的氟；
3.废水中含有难以处理的较高浓度的 COD。

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